替代DUV,光芯片赛道迎来国产首台纳米压印光刻机
在半导体制造环节中,提起光刻,行业的第一反应往往是 DUV 和 EUV 光刻机。然而,随着制程微缩的经济学瓶颈席来,纳米压印光刻(NIL)正作为一种强有力的互补路线进入产业视野。尤其在光芯片、NAND
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